亚洲av成人精品日韩一区,97久久久精品综合88久久,玩弄japan白嫩少妇hd,亚洲av片不卡无码久久,玩弄人妻少妇500系列

搜索歷史

清空
搜索熱詞
      0
      • 聊天消息
      • 系統(tǒng)消息
      • 評論與回復
      VIP于 到期 續(xù)費
      登錄后你可以
      • 下載海量資料
      • 學習在線課程
      • 觀看技術視頻
      • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
      會員中心
      創(chuàng)作中心
      發(fā)布
      創(chuàng)作活動

      完善資料讓更多小伙伴認識你，還能領取20積分哦，立即完善>

      3天內不再提示

      光刻機用納米位移系統(tǒng)設計

      jf_67773122 ? 來源：jf_67773122 ? 作者：jf_67773122 ? 2025-02-06 09:38 ? 次閱讀
      加入交流群
      微信小助手二維碼

      掃碼添加小助手

      加入工程師交流群

      光刻機是當今世界上最精密的儀器，我們使用的電子產品的芯片都是用光刻機刻出來的，怎樣讓光刻機在納米精度內作長距離移動，一直是困擾科學家的難題，今天我把我設計的光刻機用納米位移系統(tǒng)分享給大家，希望能給需要的朋友一些幫助。納米位移系統(tǒng)如下面介紹：納米位移系統(tǒng)由壓電晶體Y、電磁鐵H1、軟磁吸盤H2、絲桿S、螺母SM組成如圖所示：

      wKgZPGekERiAJCnMAACY4OP7ICY053.png光刻機用納米位移系統(tǒng)設計

      下面介紹一下工作原理：電磁鐵H1與軟磁吸盤H2隔空排列，先給電磁鐵H1通電，這樣電磁鐵H1就會吸引軟磁吸盤，當給壓電晶體Y施加電壓后，壓電晶體Y會產生微小形變，形變尺寸在納米范圍內，壓電晶體Y的形變由連桿傳到電磁鐵H1上，電磁鐵H1會繞軸作納米長度的旋轉，由于電磁鐵H1通電后與軟磁吸盤H2是吸引的，電磁鐵H1的轉動會帶動軟磁吸盤H2旋轉，吸盤H2又與絲桿相連，這樣絲桿也進行旋轉，由于螺母是固定的，不能旋轉，絲桿的旋轉會讓螺母產生位移。然后給電磁鐵H1斷電，壓電晶體Y也斷電，電磁鐵H1與壓電晶體Y就會恢復原位，軟磁吸盤H2與電磁鐵H1是隔空的，給電磁鐵H1斷電后，電磁鐵H1對軟磁吸盤H2失去吸引力，軟磁吸盤H2就會保持旋轉后的狀態(tài)。就這樣反復給電磁鐵H1與壓電晶體Y通電、斷電，螺母就會持續(xù)在納米長度內位移，多次位移就能讓螺母在較長的絲桿上作長距離運動。 好了，就介紹到這里吧！


      審核編輯 黃宇

      聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
      • 光刻機
        +關注

        關注

        31

        文章

        1165

        瀏覽量

        48189
      收藏 人收藏
      加入交流群
      微信小助手二維碼

      掃碼添加小助手

      加入工程師交流群

        評論

        相關推薦
        熱點推薦

        光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？

        電子發(fā)燒友網報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產的關鍵，但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿斯麥（ASML
        的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3396次閱讀

        電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

        電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
        發(fā)表于 05-07 06:03

        成都匯陽投資關于光刻機概念大漲，后市迎來機會

        【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
        的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?614次閱讀

        不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！

        在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復雜而精密，涉及眾多關鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
        的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?1187次閱讀
        不只依賴<b class='flag-5'>光刻機</b>！芯片制造的五大工藝大起底！

        什么是光刻機的套刻精度

        在芯片制造的復雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
        的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2252次閱讀
        什么是<b class='flag-5'>光刻機</b>的套刻精度

        半導體設備光刻機防震基座如何安裝？

        半導體設備光刻機防震基座的安裝涉及多個關鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產品質量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應工作環(huán)境。由于半導體設備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
        的頭像 發(fā)表于 02-05 16:48 ?661次閱讀
        半導體設備<b class='flag-5'>光刻機</b>防震基座如何安裝？

        如何提高光刻機的NA值

        本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
        的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1343次閱讀
        如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

        光刻機的分類與原理

        本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
        的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2512次閱讀
        <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

        組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

        納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的
        的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2213次閱讀
        組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分<b class='flag-5'>系統(tǒng)</b>介紹

        日本首臺EUV光刻機就位

        據日經亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司，已經開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，設備安裝預計在
        的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?905次閱讀
        日本首臺EUV<b class='flag-5'>光刻機</b>就位

        用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

        ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造：光刻技術的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術的發(fā)展，但當光刻機的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至6
        的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2434次閱讀
        用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

        光刻機的工作原理和分類

        ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位，被譽為芯片制
        的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5834次閱讀

        一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術

        ，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結構組成、關鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程 光刻機的發(fā)展歷程
        的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4585次閱讀
        一文看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結構及雙工件臺技術

        一文了解光刻機成像系統(tǒng)及光學鍍膜技術

        精密機械方面涉及到納米精度的位移控制技術等，這些技術發(fā)展中涉及的加工和檢測設備也都是各時代最尖端的設備，因此高精度光刻機也被稱為“人類歷史上最精密”的機器之一。?? 光刻機發(fā)展歷程 半
        的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1418次閱讀
        一文了解<b class='flag-5'>光刻機</b>成像<b class='flag-5'>系統(tǒng)</b>及光學鍍膜技術

        今日看點丨TCL收購LGD廣州廠；佳能首次出貨納米壓印光刻機

        其中。 ? 報道援引知情人士的消息稱，蘋果退出了最近一輪的談判，該輪融資預計將于下周結束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達也參與了這一輪談判。有消息稱微軟預計將在此前已向該公司投資130億美元的基礎上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次出貨納米壓印光刻機
        發(fā)表于 09-29 11:24 ?1122次閱讀