8寸晶圓的清洗工藝是半導(dǎo)體制造過(guò)程中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)，它直接關(guān)系到芯片的良率和性能。那么直接揭曉關(guān)于8寸晶圓的清洗工藝介紹吧！

顆粒去除清洗

目的與方法：此步驟旨在去除晶圓表面的微小顆粒物，這些顆?？赡軄?lái)源于前道工序或環(huán)境。通常采用超聲波清洗、機(jī)械刷洗等物理方法，結(jié)合化學(xué)溶液（如酸性過(guò)氧化氫溶液）進(jìn)行清洗。

刻蝕后清洗

目的與方法：在晶圓經(jīng)過(guò)刻蝕工藝后，表面會(huì)殘留刻蝕劑和其他雜質(zhì)，需要通過(guò)清洗去除。此步驟通常使用特定的化學(xué)溶液（如HF酸溶液）進(jìn)行清洗，以去除殘留的刻蝕劑和生成的副產(chǎn)物。

預(yù)擴(kuò)散清洗

目的與方法：在晶圓進(jìn)行擴(kuò)散工藝之前，需要確保表面干凈無(wú)雜質(zhì)，以避免影響擴(kuò)散過(guò)程的質(zhì)量。此步驟通常采用RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗工藝，即使用酸性過(guò)氧化氫和氫氧化銨溶液進(jìn)行清洗。

金屬離子去除清洗

目的與方法：晶圓表面可能會(huì)附著金屬離子，這些金屬離子會(huì)影響電路的性能和可靠性。此步驟使用特定的化學(xué)溶液（如稀鹽酸溶液）來(lái)去除金屬離子。

薄膜去除清洗

目的與方法：在晶圓表面形成的薄膜（如光刻膠）需要在后續(xù)工序中去除，否則會(huì)影響后續(xù)加工。此步驟通常使用有機(jī)溶劑（如丙酮、異丙醇）或特定的化學(xué)溶液（如硫酸和雙氧水溶液）進(jìn)行清洗。

8寸晶圓的清洗工藝是一個(gè)復(fù)雜而精細(xì)的過(guò)程，涉及多個(gè)步驟和多種技術(shù)手段。這些清洗步驟共同確保了晶圓表面的高潔凈度，為后續(xù)的半導(dǎo)體制造過(guò)程提供了可靠的基礎(chǔ)。

審核編輯 黃宇